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三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
2025-10-16 11:00:40
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【导语】据《韩国经济日报》今日消息，三星电子拟投入约1.1万亿韩元（约合54.92亿元人民币）引入两台最新High-NA双级极紫外光刻机，其中年内一台、明年上半年一台，用于产品量产。该设备为Twin Scan EXE:5200B，可大幅提升生产效率，助力降低工艺复杂性、提高晶圆产量。
《韩国经济日报》今日报道称，三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元（IT之家注：现汇率约合 54.92 亿元人民币）引进(jìn)两(liǎng)台(tái)最(zuì)新(xīn)的(de) High-NA 双(shuāng)级(jí)极(jí)紫(zǐ)外(wài)（EUV）光(guāng)刻(kè)机(jī)。
据(jù)业(yè)内(nèi)人(rén)士(shì)透(tòu)露(lù)，三(sān)星(xīng)电(diàn)子(zi)此(cǐ)前(qián)仅(jǐn)在(zài)京(jīng)畿(jī)道(dào)园(yuán)区(qū)引(yǐn)进(jìn)过(guò)一(yī)台(tái)用(yòng)于(yú)研(yán)发(fā)的(de) High-NA EUV 设(shè)备(bèi)，此(cǐ)次(cì)引(yǐn)进(jìn)的(de)机(jī)器(qì)将(jiāng)用(yòng)于(yú)“产(chǎn)品(pǐn)量产”，尚属首次。三星电子计划在年内引进一台，并在明年上半年再引进一台。
Twin Scan EXE:5200B 是第二款 0.55 数值孔径（NA）或“High-NA”极紫外光刻系统，也是 TWINSCAN EXE:5000 的升级版，在提升对准精度的同时显著提高了生产效率，被视为生产下一代半导体芯片和高性能 DRAM 的必备设备。
相较于 NXE 系统，EXE:5200B 成像对比度提升 40%，分辨率达 8nm，使芯片制造商能够通过单次曝光实现比 TWINSCAN NXE 系统精细 1.7 倍的电路刻蚀，从而将晶体管密度提升至原来的 2.9 倍。这有助于降低大规模生产中的工艺复杂性，提高客户晶圆厂的晶圆产量。
